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HCP421V-XRD

X射线衍射冷热台
HCP421V-XRD

产品简介:

HCP421V-XRD 真空冷热台是专为X射线衍射仪设计的变温附件,通过液氮制冷与电阻加热技术实现-190°C至400°C的宽温度范围控制,支持粉末、片状样品在空气、真空或惰性气体环境下的原位结构分析,其核心价值在于实时监测材料相变、晶格参数演变等热力学行为,为材料科学、能源电池等领域提供动态研究手段,XRD冷热台是为X射线衍射分析仪设计的原位装置,有效控制材料在温度变化条件下的即时反应,能够适配布鲁克、赛默飞、理学、岛津等主流XRD设备。
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功能特点

HCP421V-XRD
采用PID算法与银质传导设计,反射/透射双模式自由切换,Kapton膜视窗保障X射线穿透率,通过耦合电化学测试与XRD数据,实现材料“结构-性能”关系的多维解析,助力新型功能材料的开发与优化,跨学科应用:能源材料:分析锂/钠电池电极材料在充放电循环中的晶体结构变化;高温陶瓷:探究相变温度点及其热膨胀系数。

温控参数

温度范围

-190℃ ~ 400℃

传感器/温控方式100Ω铂RTD / PID控制

加热/制冷速度

+0.01℃/min ~ +30℃/min 

温度显示分辨率

0.001℃

温度稳定性

±0.1℃(<25℃);±0.1℃(<25℃)

适用光路

反射光路 

入射角度

0°~85°

加热区/样品区

Φ26 mm

安装方式

水平安装



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