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HP1200G-XRD

X射线衍射冷热台

产品简介：

HP1200G-XRD 高温热台专为XRD小角散射和同步辐射的高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域，可加装样品接电引线，可定制样品区。
此款热台可在 30℃ ~ 1200℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，这样可以充入氮气等保护气体，来防止样品在高温下反应，高温XRD热台通过细致温控与多环境模拟，为高温材料行为研究提供了不可替代的原位分析手段，为X射线衍射分析仪设计的原位装置，控制材料在温度变化时的即时响应，能够适配布鲁克、赛默飞、理学、岛津等主流XRD设备。产品咨询

功能特点

智能控制：通过触摸屏或软件编程，实现多段温度曲线设定、自动保存数据
支持气氛（惰性气体）环境，满足不同实验条件
模块化上盖设计，可切换为光学冷热台，实现一机多用
Kapton膜视窗确保X射线穿透性，支持0~70°衍射角全覆盖

温控参数

温度范围	30℃ ~ 1200℃
传感器/温控方式	S型热电偶 / PID控制
加热/制冷速度	±0.5℃/min ~ +100℃/min
温度分辨率	0.1℃
温度稳定性	±1℃
适用光路	反射光路
入射角度	0°~85°
加热区/样品区	Φ15 mm
安装方式	水平安装

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