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HP1400G-CCR

高温催化台

产品简介：

HP1400G-CCR高温催化高温热台专为显微镜/光谱仪上的高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域, 30℃ ~ 1400℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制,热台窗盖与台体构成一个气密腔，可以充入氮气、还原性气体、腐蚀性气体等。
高温催化研究‌：催化剂性能评价、气相光催化（如CO₂还原、VOCs降解）
‌材料合成‌：半导体烧结、石墨烯生长、腐蚀性气体环境合成‌
原位分析：水分解制氢/制氧、固氮反应过程实时观测产品咨询

功能特点

高温范围‌：支持 ‌30°C ~ 1400°C‌ 的宽域温度控制，满足高温材料合成、催化剂烧结等需求‌
氮化硅加热块确保均匀传热，循环水冷系统维持外壳常温，保障长期运行安全‌
腔体支持充入还原性气体（氢气，甲烷，CO/CO2等气氛）、氧化性气氛（氧气、二氧化碳）、惰性气氛等
Φ4 mm加热区
样品区和加热区隔离式设计，气体氛围只包裹样品

温控参数

温度范围	RT ~ 1400℃
传感器/温控方式	S型热电偶 / PID控制
加热速度	+0.5℃/min ~ +100℃/min
温度显示分辨率	0.1℃
温度稳定性	±1℃（>25℃）
软件功能	可设温控速率，可设温控程序，可记录温控曲线
加热区/样品	Φ4 mm
适用光路	反射（可选择透射/反射兼容）
样品衬底	多孔陶瓷（Φ3.8 mmx1 mm）

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