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HP1000G-CCR

高温催化台

产品简介：

HP1000G-CCR催化热台专为化学气相沉积、石墨烯生长设计，可用于显微镜/光谱仪，可用于气相沉积，石墨烯生长、高温材料等领域,可定制样品区。
此款冷热台可在 30℃ ~ 1000℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，可以充入氮气、还原性气体、腐蚀性气体等。
高温催化研究‌：催化剂性能评价、气相光催化（如CO₂还原、VOCs降解）
‌材料合成‌：半导体烧结、石墨烯生长、腐蚀性气体环境合成‌
‌原位分析‌：光解水制氢/制氧、固氮反应过程实时观测‌产品咨询

功能特点

高温范围‌：支持 ‌30°C ~ 1000°C‌ 的宽域温度控制，满足高温材料合成、催化剂烧结等需求‌
氮化硅加热块确保均匀传热，循环水冷系统维持外壳常温，保障长期运行安全‌
腔体支持充入 ‌氮气、还原性气体、腐蚀性气体‌（如H₂、CO），适配催化反应与材料合成‌
可拆卸石英窗片,可选 ‌反射/透射光路‌，兼容激光拉曼、红外光谱等联用‌

温控参数

温度范围	RT ~ 1000℃
传感器/温控方式	S型热电偶 / PID控制
加热速度	+0.5℃/min ~ +100℃/min
温度显示分辨率	0.1℃
温度稳定性	±1℃（>25℃）
软件功能	可设温控速率，可设温控程序，可记录温控曲线
加热区/样品	20X20 mm
适用光路	反射（可选择透射/反射兼容）

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